我国光刻机做到多少nm，尼康光刻机做到多少nm了

1，尼康光刻机做到多少nm了

据说可以做到5纳米，3纳米在研发中。接下来向皮米级进军。

尼康光刻机做到多少nm了

2，中国的光刻机现在达到多少纳米了

光电所微细加工光学技术国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机，结合多重曝光技术，可以用于制备10纳米以下的信息器件。这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革，也将加快推进工业4.0，实现中国制造2025的美好愿景。

中国的光刻机现在达到多少纳米了

3，光学光刻能用于制作纳米尺度图形吗

纳米尺度你指的是多大？一般而言，小于1微米就可以成为纳米尺度。现在光学手段的光刻技术（193 nm光刻机）做到22 nm以下没有问题，看看intel的cpu产品就是最好的例子，但是这种光刻机价格十分昂贵。还有极紫外光刻（10 nm-14 nm光源）也是制备10 nm左右图形的选择方案之一。

需要吧

光学光刻能用于制作纳米尺度图形吗

4，光学光刻技术的极限是多少

这要看你的曝光机的精密度，范围比较大的在2um左右吧，极限肯定要比这个小

5，请问最新的CPU用的几十纳米技术用什么光刻机实现的最好具体点

ASML或者Nikon的193nm浸没式光刻机或者193nm扫描式光刻机

目前是INTEL的32NM,不过INTEL已经准备22NM了.光刻机.32nm制程目前用的是193nm沉浸式光刻技术具Intel透露,计划要将193nm沉浸式光刻技术沿用到11nm节点制程当然,光刻技术还有极紫外光刻技术,不过还处在实验阶段,显然INTEL目前不怎么看好这个技术 LS,现在INTEL的I3和I5 6XX就是32NM的CPU核心+45NM的GPU核心,I7 980X也是32NM制程

I系列CPU都是32纳米的

intel现在是32nm，明年就会升级到sandy平台，真正的将cpu和gpu结合，是22nm，而amd在工艺上一向落后于intel一代，现在仍然停留在45nm，还没有32nm的消息放出

因特尔 i5 i7 都是45纳米 AMD也是，听说下一代处理器就是32纳米的，符合摩尔定律。晶体管发热和电流漏电现象是阻碍晶体管变小的一个重要原因，因此，新一代Penryn处理器家族将采用全新材料制作的45nm晶体管绝缘层(insulating wall)和开关闸极 (switching gate)，减低晶体管漏电(electrical leakage)情况

6，中国哪家的光刻机功能性能最好

上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧，估计是中国最先进的了。SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备。此外，该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术，并配合其他分辨率增强技术，能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。本人亲自用过，号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的。6寸、8寸、12寸都能生产，人际界面良好，效率还算可以，跟国外同类型机器相比故障率稍高。

苏州印象镭射科技有限公司生产的光刻机不但分辨率高，可达2540dpi,而且光刻速度快，最快可达1000点/秒。当今流利的一些防伪镭射技术都可制作。该公司与苏州大学合作，有专业的研发队伍，可不断研制新的防伪技术。他们生产的光刻机性能稳定，可靠，能持续工作很长时间。功能强大，能防止意外断电带来的不良后果。上机文件格式为bmp,可用任何绘图软件转化而成。目前该公司主要有3种光刻机：1）小光刻机，有效面积为150mmX150mm.2)中光刻机，有效面积为400x400mm.3)大光刻机，有效面积为800mm x 1000mm. 可根据客户的要求量身定制。该公司还可生产拼版机，电铸机等一系列镭射相关产品。 Tel: 0086-0512-67077898 QQ: 576950417

强烈建议上海微电子和合肥芯硕

苏州印象镭射有限公司生产的光刻机在中国处于领先地位。他们的光刻机不但性能稳定，可靠，而且可持续工作很长时间。当今流行的镭射防伪技术基本都可制作。该公司与苏州大学合作，有专业的研发团队专门研究新的防伪技术。所以他们的技术可不断得到更新。他们的光刻机功能强大，可预防断电带来的严重后果，操作软件灵活，友好，可预览光刻后的镭射效果。上机文件格式为BMP,可由任意绘图软件转化成。他们的光刻机一般有3种：1）小光刻机，有效面积为150mm X150mm. 2）中光刻机，有效面积为400mm X400mm. 3）大光刻机，有效面积为800mm X1000mm. 重要的是他们可根据客户的要求量身定制。 tel: 0086-0512-67077898 qq: 576950417

7，光刻机中国能造吗

暂时不能光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，成品背后需要无数的产业链支持，以中国现在的科技水平暂时还不能造出。当中国专家去荷兰阿斯麦尔公司参观光刻机的时候，阿斯麦尔的高管直接对中国的专家说：就算给你全套图纸，你们中国也造不出光刻机。很多中国人听到这句话都非常的气愤，凭什么中国就造不出光刻机？近年来关于国产光刻机弯道超车的新闻频繁在各类媒体中出现，国人想要在光刻机技术上超越欧美发达国家的爱国情怀可以理解，但部分媒体为了博取眼球对国产光刻机过分的吹捧，不尊重事实的报道对普通大众而言其实是一件特别不负责任的事情。理想很丰满，现实很骨感，以中国现在的科技水平确实造不出光刻机，光刻机不是一项单一的技术，而是现代各项高科技技术的集成，光刻机的内部十分复杂，可以说是人类知识集大成的产物之一，光刻机就像手机和汽车一样，是由无数的零配件组装合成的，最终实现某种功能，成品背后需要无数的产业链支持，各式各样的零配件都是行业内顶级的技术体现，没有长时间的深耕运作，国产光刻机在单一的某项技术上实现领先是没问题的，但是想要在整体上实现弯道超车，基本上不现实。举个例子：比如马拉松长跑比赛，第二名与第一名的差距相差3公里，在某一个时间段，第二名选手的速度超过了第一名选手，这仅仅代表着第二名选手最终有超越第一名选手的可能，但是3公里路程的巨大差距却不是一时半会可以赶上的，想要超越，时间跨度将非常大，因为你在努力向前跑的同时对手也在努力向前跑。荷兰阿斯麦尔之所以能够垄断全球最顶尖的光刻机市场，不是因为荷兰人聪明，单纯靠荷兰人也研发不出光刻机，光刻机的研发集合了全球优势资源加上半导体几十年的技术积累，最终在数以万计的专业的顶尖研发人员不断技术突破下才成功，荷兰的幸运在于目前只有荷兰掌握光刻机最核心的技术“侵入式光刻技术”，所以现在顶级光刻机只有荷兰有能力生产。技术是研发的外在体现，任何技术的突破都是厚积薄发的结果，光刻机需要的技术方向特别多，比如机械化层面，自动化层面，系统科学层面等一大堆方向都需要有人去攻关，有些地方是知道技术壁垒的，但是如何突破技术壁垒还没有头绪，有些地方连技术壁垒在什么地方都没找到，更别谈技术突破了，而且任何一项技术的突破都需要长年累月技术投入，资金投入，人员投入。技术积累并不是钱能够解决的，目前国内在光刻机领域做得比较好的是上海微电子装备和中科院的某个研究所，它们目前还停留在90nm研发产品阶段，而荷兰阿斯麦尔7nm的光刻机已经实现量产，当然这并不代表国产光刻机没有超越的机会，目前国内对光刻机的重视程度越来越高，大量的资金和顶尖的人才都在光刻机领域深耕研究。国产光刻机其实只要在某些关键技术上取得突破，就算得上是弯道超车了，就好比荷兰阿斯麦尔在光刻机“侵入式光刻技术”上领先全球一样，没有这项关键性技术，就无法制造更顶级的光刻机，所以目前只有荷兰才有资格制造顶级光刻机。

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