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1,蚀刻工艺药水调浓度与蚀刻速度变化

造成蚀刻速度变化的有:比重、氯离子、温度、cu2+

蚀刻工艺药水调浓度与蚀刻速度变化

2,黄铜板使用哪一种方法蚀刻速度更快更好

硝酸!!最好是浓硝酸,不过都要注意防毒气NO2
你好!黄铜板的蚀刻蚀刻液类型非常多,常规的有三氯化铁蚀刻液,硝酸盐酸蚀刻液,氯化铜蚀刻液、高氯酸蚀刻液、过硫酸铵蚀刻液等等,至于说哪一种方法最好,我们当然要结合自己的生产情况进行选择,很多时候最快并不是衡量蚀刻液好坏的标准,在蚀刻速度满足要求的前提下,蚀刻最好才是衡量蚀刻液的唯一标准。如需进一步的了解,可以把你的具体情况描述一下。以上回答希望可以帮到你。希望对你有所帮助,望采纳。

黄铜板使用哪一种方法蚀刻速度更快更好

3,2OZ铜厚酸性蚀刻操作规范

这种问题太专业了,并且百度上找不到。即使你悬赏100分,估计也不会有人回答的。找找专业的书籍吧,可能会有帮助。真的帮不上忙。
我用的是氯化铜蚀刻液:酸当量1.7+-0.2 比重1.300+-0.02 铜离子150+-15 温度50+-2 压力2.0+-0.5kp/cm2 在生产fpc是用不到2盎司铜箔的 如果是不镀铜的双面铜箔速度在1+-0.2m/min 在增加酸当量的情况下可以加快蚀刻速度
电路板在制作的时候会使用一张铜皮,这个铜皮就叫做基铜,厚度是2盎司,换算一下就是70um。在制作过程中,会对这个基铜进行腐蚀和电镀等操作。完成制作后的铜皮厚度叫做完成铜厚。

2OZ铜厚酸性蚀刻操作规范

4,影响蚀刻的主要参数

影响蚀刻的参数主要有蚀刻液的组成成分、浓度、酸碱度、添加剂种类、蚀刻方式等。  下面分别说明:  1,蚀刻液的组成。针对同一种金属材质来说,蚀刻液的配方可以有好多种,以铜板为例,既可以使用三氯化铁系列的蚀刻液,也可以使用氯化铜蚀刻液、还有双氧水蚀刻液等。事实证明,不同系列的蚀刻液蚀刻速度差别很大,同时蚀刻效果(蚀刻面的平整度、侧蚀大小)也是存在较大的差别。  2,浓度。浓度大小当然影响蚀刻速度。但并不是说浓度越大蚀刻速度也就越大。实际生产中需要将蚀刻液的浓度控制在一定范围之内。  3,酸碱度。对于金属材质而言,溶液保持一定的酸碱度是很重要的。我们通常使用的蚀刻液以酸性蚀刻液为主,碱性蚀刻液使用较少。  4,添加剂和蚀刻方式的影响。蚀刻过程实质是化学反应的过程,但也有一部分物理因素起作用。比如,静止蚀刻跟喷淋蚀刻的差别还是非常大的。而添加剂的作用也不容忽视,通过添加合适的添加剂,可以改善蚀刻的均匀性、减小侧蚀量等。
以上数据仅供参考,具体还是建议找这方面的检测机构更准确哦

5,三氯化铁蚀刻液 怎么配阿谁可以告诉我谢谢

使用固体三氯化铁配置腐蚀溶液可按100g固体三氯化铁加200ml水的比例,这个比例并不严格,浓度高时腐蚀速度稍快些,浓度低时腐蚀速度慢些。 另外在腐蚀电路板时可以给三氯化铁溶液适当加热。这样可以提高腐蚀速度,但加热温度不要高于65%。在腐蚀过程中应用竹夹子夹住印制板在三氯化铁溶液中勤晃动,这样也可以提高腐蚀速度。一般情况下腐蚀一块电路板在30分钟左右即可完成。配置好的三氯化铁可反复使用,但发现溶液中沉淀较多时应重新配置腐蚀溶液。 保存固体三氯化铁应在密闭、低温、通风的环境下,重点是密闭,不应使三氯化铁接触潮气--------------------------------加入盐酸是为了防止三氯化铁分解。
三氯化铁配方应用极其广泛,常见的金属比如不锈钢、铜材、铝材皆可被三氯化铁蚀刻。但有一点需要注意,不同材质,三氯化铁的浓度、酸度、添加剂成分都是有差别的。以不锈钢为例,蚀刻液的主要成分就是三氯化铁加盐酸,但是相对于铝材来说,其浓度一般不低于40波美度、酸度含量不低于2%。
三氯化铁500~600克,盐酸20~50克,水1000克,混匀温度:4-50度时间:5-10分钟

6,不锈钢做腐蚀工艺需要多厚

不锈钢做腐蚀工艺的厚度,跟不锈钢的用途有关系。一般的腐蚀厚度在0.05mm-2.5mm,特殊情况下也可以超过这个范围。不锈钢腐蚀法工艺流程一般包括:根据客户图纸电脑设计制造菲林、下料清洗、印刷烘干、曝光显影、蚀刻、清洗烘干。(1)不锈钢腐蚀—图纸设计和菲林制作 运用较高档计算机辅助设计技术设计需要生产的金属零件,软件主要采用CAD/CAM软件。图纸设计完成后通过专用设备曝光形成掩膜板菲林。设计过程中需要按图纸尺寸和相关技术要求进行设计,根据蚀刻工艺精度准确设计零件各边线和工艺用剪断线和折断线(生产过程中产生,成品后去料)。同时结合主要材料下料规格确定每块菲林上的零件数量,达到材料利用率最大。(2)不锈钢腐蚀—下料清洗 根据设计确定下料尺寸和规格。现在大量使用进口铁镍合金、进口铜带等金属,国内原材料主要从日本进口。落料不得有毛刺、划痕和变形。钣料四边互为直角,角度误差 ,变长误差在±0.3mm以内。下料后进行去油清洗,烘干后需要达到表面无污物、污斑和无划痕。(3)不锈钢腐蚀—印刷烘干 通过至少250目的丝网上胶印刷,采用1500#和1501#专用油墨配合套稀释剂调制使用。油墨厚度尽量均匀一致。根据零件本身特性设置烘干温度进行有效烘干。(4)不锈钢腐蚀—曝光显影 曝光在洁净室内完成,一般需要达到class 10万级。根据材料和油墨等不同,对应设置不同的曝光时间和曝光级数。曝光机必须提前半小时开机并对曝光级数进行测试,达到要求方可进行曝光程序。 针对材料和油墨不同配置相应显影溶液,通过显影机显影、泵洗和热风吹干。特别注意最后需要对版面进行修正,出去多余胶膜等确保成品合格率。(5)不锈钢腐蚀——腐蚀烘干 该步为重要的一步。首先配制好蚀刻液,现在主要采用三氯化铁溶液。根据零件特点配置不同浓度以达到较好的效果。主要影响因素有溶液温度、浓度、蚀刻速度。蚀刻后通过烧碱溶液去摸,最后清洗烘干。
蚀刻深度一般在4-6个C左右。0.1毫米等于10个丝。本公司专业提供不锈钢板加工。彩色不锈钢
不锈钢腐蚀,跟你的材料厚度没有关系,是你要在不锈钢上蚀刻多深的要求。目前的板厚0.05mm~1.0mm,都可以蚀穿,也有半蚀,要看要求,一般情况蚀0.5mm以下是没有问题的。
不锈钢或钛金类的铭牌不是腐蚀工艺制作的,是通过用激光雕刻机按设定的图案雕出来的。

7,离子轰击和化学刻蚀是什么关系

不可以同时设定.\x0d一般RIE设备,都是采用一个 13.56MHz 射频源 和 相应的匹配网络.射频设定功率=前向(实际、有用)射频功率+反射功率.\x0d工艺气体在弧光放电下形成电子(半径、质量近似为“0”)、离子(有相对电子而言“极大”的质量和半径)等组分.由于质量的不同,在同一射频场(力)的作用下,电子可以轻易获得极大速度到达电极;离子等速度较慢,且碰撞几率大,无法在 1/13.56MHz 时间内到达电极,在周期性力的作用下形成定向运动.电离(电子、离子运动动态、等效阻抗)稳定时,形成一稳定的 直流偏压(射频功率同时稳定).\x0d可以说,前向射频 和 偏压 是通过 匹配网络 和 可变负载阻抗(气体电离、刻蚀产物等组分…)联系在一起的.在刻蚀过程中,腔体内组分会发生变化,同时匹配也不会是理想的(对阻抗变化有一定延迟;一般为了工艺稳定性、重复性,允许有2%以内的反射),因而实际(前向)射频功率 和 偏压是异时序、时时变化的,且满足一定关系(关系式根据条件不同而不唯一).因此实际应用中,不同时设定 射频功率和偏压.\x0d理论上,功率、偏压都可以单独设定.但实际上,经常只选择设定 功率.\x0d实际应用中,要综合考虑设备的能力、工艺稳定性、工艺重复性、工艺合理性、设备故障率等各种因素.例如射频源,为了长期可靠工作,一般功率设定为最大功率的30%,随着功率 设定值/最大值 比例的增大,设备故障率呈指数增长.\x0d如果单独设定偏压,相对来说,能量稳定、刻蚀速率稳定.但是,由于阻抗和匹配的问题,射频功率也在不断 频繁 变化,最坏情况下会出现偏压所要求的功率等于或大于 实际最大射频功率,极易引起 射频源、匹配网络故障或报废,造成停工,风险高、成本上升.\x0d单独设置 功率,相对来说,工艺稳定性、重复性好、风险低,对设备潜在损伤小.通过合理设置 功率,使偏压波动满足生产要求.\x0d3 有人提出的“偏压的作用主要是用于产生刻蚀的各向异性”是否正确.\x0d这个说法 片面.出于某种目的,在某些特殊前提下,可以选择说正确.\x0d偏压 受 功率、气体组分、流量、腔体内组分、压力等因素的影响.\x0d(RIE)刻蚀主要分为 物理溅射刻蚀 和 化学反应刻蚀两种.\x0d物理溅射刻蚀,典型例如 Ar 刻蚀 Pt,两者不发生化学反应.在偏压作用下,部分Ar电离形成Ar+,部分Ar受Ar+碰撞而加速,形成高能 离子(粒子),通过轰击时的能量交换,被轰击表面的原子在某些方向获得的能量大于逸出能 (或 键能、结合能……),从而脱离表面,形成刻蚀.偏压越高,离子(粒子)在偏压指定方向获得的能量就越大,刻蚀速率就越大,方向性就越好(即各向异性).\x0d化学反应刻蚀,典型例如SF6 刻蚀 Si ,在偏压 作用下,SF6电离成 SF5*、SF4*、SF3*、SF2*、SF*、F-、F等组分,偏压越强,电离越充分,F浓度就越高.由于F的极强的电负性、小原子序数、SFn*的不稳定性、高F/S比以及SiF4的低沸点,Si与F的反应会自发进行,不易受控制,因而表现出与偏压基本无关的各向同性刻蚀.

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